《重生80：我的军工记忆有点猛》第151章 良率线上的“暴龙”与传真机里的“毒牙” 下

**4B！**还是4B！氮离子注入并没有带来预期的提升，甚至在某些批次上附着力还略有下降。 “沈工，氩离子我们做到4B已经是极限了，氮离子这条路…似乎走不通？”助手有些沮丧。 沈清秋没有回答，她调出之前氩离子最佳参数（30KeV,1E17）下的高倍电镜图，反复对比氮离子处理后的界面。**氩离子注入形成的“强化锚点”层更均匀致密，与薄膜的结合界面模糊而连续；而氮离子注入层则出现了细微的脆性相，界面处甚至有微裂纹！** “**氮的原子半径小，注入后可能形成了硬脆的氮化铝层，反而损害了韧性，成了薄弱点！**”沈清秋瞬间找到了关键，“方向错了！我们应该回到氩离子，但尝试**梯度注入**！低能量高剂量打底形成强结合层，高能量低剂量浅层注入优化表面状态！” 她立刻调整方案，重新设计注入参数组合。**突破“5B壁垒”的曙光，似乎又回到了氩离子的道路上，但需要更精细的“微雕”工艺。** 就在这时，实验室电话响起，是王干事，语气比平时更严肃：“沈博士，方便来我办公室一趟吗？有些事情…需要和你非正式地沟通一下。” 沈清秋心中一凛，放下手中的电镜照片。该来的，终究还是更近了一步。 王干事的办